GR2 GR5 Industria del rivestimento a bersaglio di titanio puro Lega di titanio Ti6Al4V

Titanio di alta qualità obiettivo GR2 GR5 lega di titanio Ti6Al4V

La parola "obiettivo" in "obiettivo di sputtering di titanio" deriva dai materiali comuni di destinazione nella nostra vita quotidiana.il materiale di rivestimento è bombardato da un fascio di elettroni o da un fascio di ioni, proprio come il bersaglio viene colpito, quindi il materiale usato nel processo di sputtering è chiamato "sbuttar target".

Dal titanio metallico al titanio sputtering target

L'obiettivo di sputtering del titanio è un prodotto in titanio realizzato con metallo di titanio come materia prima, che viene utilizzato per produrre pellicole di titanio mediante sputtering.ci sono due metodi per la fabbricazione di bersaglio di sputtering di titanio con metodo di fusione di titanio metallico e metodo di metallurgia a polvere.

Fusione: sciogliere le materie prime in una certa proporzione, versare la soluzione di lega nello stampo per formare lingotti e infine trasformarle in bersagli da sputtering.Il metodo consiste nella fusione e nella fusione in vuoto.

Metallurgia della polvere: sciogliere le materie prime con una certa proporzione, gettarle in lingotti, schiacciarle, premere isostaticamente la polvere e poi sinterarle ad alta temperatura per produrre bersagli.

Nome del prodotto: Sputtering a bersaglio di titanio

Materiale: titanio puro: GR1 GR2

Purezza >= 99,6%

Applicazione:hardware, decorazione, utensili, ceramica, golf e altre industrie del rivestimento.

Dimensione:

Obiettivo di sputtering rotondo: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 e altre dimensioni specifiche.

Obiettivo di sputtering del tubo: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm e altre dimensioni specifiche.

Obiettivo di sputtering per piastre: T6-40×W60-800×L600-2000 mm e altre dimensioni specifiche.

Possiamo personalizzare bersagli in lega in diverse proporzioni secondo le esigenze del cliente

Immagini dettagliate:

Materiale:

1) Obiettivo di lega di Ti/Al (67:33,50:50at%)

2) Obiettivo di lega W/Ti (90:10 wt%),

3) Obiettivo di lega Ni/V (93:7, in peso%)

4) Obiettivo di lega Ni/Cr (80:20, 70:30, in peso %

5) Obiettivo di lega Al/Cr (70:30,50:50at%)

6) Obiettivo di lega Nb/Zr (97:3,90:10%)

7) Obiettivo di lega Si/Al (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, in peso%)

8) Obiettivo per lega Zn/Al

9) Obiettivo di cromo ad alta purezza (99,95%, 99,995%)

10) Obiettivo di lega Al/Cr (70:30, 50:50, 67:33, in %

11) Obiettivo di lega Ni/Cu (70:30, 80:20, in peso%)

12) Obiettivo leghe Al/Nd (98:2wt%)

13) Obiettivo di lega Mo/Nb (90:10, in peso%)

14) Obiettivo per le leghe di TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% e a%)

15) Obiettivo per le leghe CrAlSi (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% e a%)