Titanio di elevata purezza che farfuglia gli obiettivi per la macchina di rivestimento di vuoto di PVD

Obiettivi per lo sputtering di titanio ad alta purezza per la macchina di rivestimento a vuoto PVD

- Sì.

Obiettivi per lo sputtering di titanio ad alta purezza

Requisiti di base per obiettivi di sputtering in titanio:

In generale, per misurare se l'obiettivo di sputazione soddisfa i requisiti principali, si terranno conto dei seguenti indicatori:

Purezza: la purezza ha una grande influenza sulle prestazioni della pellicola sputtered.proprietà elettriche e ottiche della pellicola sputterizzata.

Contenuto di impurità: le impurità nel solido bersaglio e l'ossigeno e il vapore acqueo nei pori sono le principali fonti di inquinamento della pellicola di deposizione.Diversi materiali bersaglio hanno requisiti diversi per il loro tenore di impurità.

Densità: la densità del bersaglio non influirà solo sul tasso di sputtering, ma anche sulle proprietà elettriche e ottiche del film.per ridurre la porosità del solido bersaglio e migliorare le prestazioni della pellicola sputterizzata, il bersaglio deve di solito avere un'alta densità.

Dimensione del grano e distribuzione del grano: per lo stesso bersaglio, il tasso di sputazione del bersaglio di grano fine è più veloce di quello del bersaglio di grano grossolano;Più piccola è la differenza di dimensione delle particelle (distribuzione uniforme), più uniforme è lo spessore della pellicola di deposizione di sputtering bersaglio.

Immagini dettagliate:

Imballaggio:Ogni bersaglio in titanio è confezionato in un sacchetto di plastica a vuoto personalizzato, riempito di pellicola di schiuma e cotone perla al centro, e un involucro di compensato senza fumigazione all'esterno.Rispettare le norme internazionali di trasporto, per garantire la sicurezza del trasporto delle merci.

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