Marchio: | LHTi |
Numero modello: | Titanium Target |
MOQ: | 100 pieces |
prezzo: | negoziabile |
Condizioni di pagamento: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacità di fornitura: | 5000 Pieces Per Month |
Metale bersagli di sputtering Gr1 Gr2 Gr5 Titanio Sputtering argento bersaglio di sputtering per la macchina di rivestimento a vuoto PVD
Dettagli del prodotto:
Grado: Gr1 Gr2 Gr5 Titanio, TiAl, TiCr, TiCu, TiSi, Mo, Cr ecc. a richiesta del cliente
Dimensioni: 60/65/70/80/85/90/95/100 ((D)/200/300/400×20/30/32/35/40/42/45/50 ((T) O come richieste dei clienti
Superficie: superficie luminosa
Applicazione: industria dei rivestimenti, industria dei rivestimenti a vuoto per lo sputtering
Requisiti chimici:
N | C | H | Fe | O | Al | V. | Papà! | Mo. | Ni | Ti | |
Gr 1 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.20 | 0.18 | / | / | / | / | / | palla |
Gr 2 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | / | / | palla |
Gr 3 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.35 | / | / | / | / | / | palla |
Gr 4 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.50 | 0.40 | / | / | / | / | / | |
Gr 5 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.40 | 0.20 | 5.5~6.75 | 3.5~4.5 | / | / | / | palla |
Gr 7 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | 0.12 ~ 0.25 | / | / | palla |
Gr 9 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.25 | 0.15 | 2.5~3.5 | 2.0~3.0 | / | / | / | palla |
Gr12 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | 0.2~0.4 | 0.6~0.9 | palla |
Nome del prodotto: Sputtering a bersaglio di titanio
Materiale: titanio puro: GR1 GR2
Purezza >= 99,6%
Applicazione:hardware, decorazione, utensili, ceramica, golf e altre industrie del rivestimento.
Dimensione:
Obiettivo di sputtering rotondo: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 e altre dimensioni specifiche.
Obiettivo di sputtering del tubo: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm e altre dimensioni specifiche.
Obiettivo per lo sputtering delle piastre: T6-40×W60-800×L600-2000 mm e altre dimensioni specifiche.
Possiamo personalizzare bersagli in lega in diverse proporzioni secondo le esigenze del cliente
Gli obiettivi di sputter in titanio sono materiali essenziali utilizzati in vari processi di produzione avanzati, in particolare nelle tecnologie di deposizione a film sottile come lo sputtering.Questi obiettivi sono ampiamente utilizzati nella produzione di rivestimenti per una varietà di applicazioniEcco uno sguardo approfondito a questi materiali, le loro applicazioni e le loro specifiche.
Uno sputter target è un materiale usato nella deposizione di sputtering, un metodo di deposizione di film sottili.un materiale bersaglio viene bombardato da ioni energetici (di solito da un plasma) che causano l'espulsione di atomi (sputtering) e il loro deposito su un substratoGli obiettivi di sputter in titanio sono utilizzati specificatamente per depositare film sottili di titanio su una varietà di superfici,fornendo proprietà benefiche come la resistenza alla corrosione, resistenza all'usura e maggiore durata.
Esistono diverse varianti di bersagli di sputter in titanio, ognuno dei quali offre proprietà e applicazioni uniche:
Obiettivi dello sputter in titanio (Ti):
I bersagli di titanio puro (Gr1, Gr2, Gr5) sono ampiamente utilizzati per depositare pellicole di titanio.rivestimenti resistenti alla corrosione.
Obiettivi di sputter in titanio-alluminio (TiAl):
Gli obiettivi di sputter TiAl sono una combinazione di titanio e alluminio.
Obiettivi di sputter in titanio-cromo (TiCr):
I bersagli TiCr sono utili per depositare film che hanno una maggiore durezza e resistenza all'usura.
Obiettivi di sputter in titanio-rame (TiCu):
Gli obiettivi di sputtering del TiCu combinano le proprietà del titanio e del rame.rendendo tali bersagli ideali per la microelettronica e i transistor a pellicola sottile.
Obiettivi di sputter in titanio-silicio (TiSi):
Gli obiettivi di sputter TiSi sono utilizzati per la produzione di film con stabilità termica specifica e resistenza chimica, comunemente utilizzati in dispositivi a semiconduttore, componenti microelettronici e rivestimenti ottici.
Obiettivi dello sputter di zirconio (Zr):
I bersagli di sputter di zirconio sono spesso utilizzati in applicazioni che richiedono elevata resistenza alla corrosione, resistenza all'ossidazione e resistenza all'usura.e rivestimenti ottici.
Obiettivi per lo sputter di cromo (Cr):
Gli obiettivi di sputter Cr sono utilizzati per depositare rivestimenti duri e resistenti all'usura e per finiture decorative sulle superfici.
Obiettivi per lo sputter di molibdeno (Mo):
Gli obiettivi di sputter in molibdeno forniscono stabilità ad alte temperature e sono ideali per applicazioni in elettronica, fotovoltaica e rivestimenti ottici.
Grado 1 (Gr1): Titanio puramente commerciale con eccellente resistenza alla corrosione, ma una resistenza inferiore.Adatto per applicazioni che richiedono un'elevata resistenza alla corrosione ma non una elevata resistenza meccanica, quali apparecchiature chimiche e impianti medici.
Grado 2 (Gr2): Il grado di titanio puro più utilizzato in commercio, che offre un equilibrio di resistenza e resistenza alla corrosione.
Grado 5 (Gr5): nota come Ti-6Al-4V, questa lega di titanio combina 6% di alluminio e 4% di vanadio per una maggiore resistenza.e rivestimenti ad alte prestazioni.
I bersagli di sputter in titanio sono disponibili in varie dimensioni standard, a seconda dell'applicazione specifica e dei requisiti del sistema di deposizione.
Oltre a queste dimensioni standard, gli obiettivi di sputter in titanio possono essere personalizzati per soddisfare specifiche esigenze del cliente, sia in base a specifiche dimensioni o composizioni materiali.
La qualità di un bersaglio sputter influenza significativamente la qualità della pellicola depositata.
Alta purezza: una purezza elevata è essenziale per garantire che il film depositato sia privo di impurità, che potrebbero influenzare le sue proprietà o le sue prestazioni.
Granelli di cristallo uniformi: il bersaglio deve avere una struttura cristallina uniforme, che è importante per lo sputtering coerente e la deposizione di un film sottile uniforme.
Buona compattezza: il bersaglio deve avere una struttura densa e ben formata per garantire che lo sputtering avvenga in modo uniforme ed efficiente.
Basso livello di contaminazione: il bersaglio non dovrebbe contenere impurità che possano contaminare il processo di deposizione, che è fondamentale per applicazioni ad alta precisione come i semiconduttori e i nanomateriali.
Gli obiettivi di sputter in titanio sono utilizzati in una varietà di processi di produzione avanzati.
Elettronica: le pellicole di titanio sputter sono utilizzate per strati conduttivi, pellicole isolanti e rivestimenti magnetici in dispositivi elettronici come smartphone, display e transistor a film sottile.
Semiconduttori: il titanio e le sue leghe sono utilizzati nella fabbricazione di dispositivi semiconduttori per interconnessioni, condensatori e altri componenti essenziali.
Aerospaziale: le pellicole di titanio sono applicate ai componenti in applicazioni aerospaziali e militari, dove sono essenziali elevati rapporti forza/peso, resistenza alla corrosione e resistenza all'usura.
Rivestimenti ottici: gli obiettivi di sputter in titanio sono utilizzati per depositare film sottili per rivestimenti ottici (ad esempio, film antiriflesso, specchi e filtri ottici).
Nanomateriali: le pellicole di titanio sono utilizzate per la creazione di nanomateriali con proprietà specifiche per la catalisi, le celle solari, gli elettrodi delle batterie e le applicazioni dei nanotubi.
Dispositivi medici: le pellicole sputter di titanio sono utilizzate in applicazioni biomediche, in particolare per creare rivestimenti biocompatibili su impianti e strumenti chirurgici.
Requisiti chimici
N | C | H | Fe | O | Al | V. | Pd | Mo. | Ni | Ti | |
Gr1 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.20 | 0.18 | / | / | / | / | / | palla |
Gr2 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | / | / | palla |
Gr5 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.40 | 0.20 | 5.5~6.75 | 3.5~4.5 | / | / | / | palla |
Gr7 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | 0.12 ~ 0.25 | / | / | palla |
Gr9 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.25 | 0.15 | 2.5~3.5 | 2.0~3.0 | / | / | / | palla |
Gr12 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | 0.2~0.4 | 0.6~0.9 | palla |
Materiale:
1) Obiettivo di lega di Ti/Al (67:33,50:50at%)
2) Obiettivo di lega W/Ti (90:10 wt%),
3) Obiettivo di lega Ni/V (93:7, in peso%)
4) Obiettivo di lega Ni/Cr (80:20, 70:30, in peso %
5) Obiettivo di lega Al/Cr (70:30,50:50at%)
6) Obiettivo di lega Nb/Zr (97:3,90:10%)
7) Obiettivo di lega Si/Al (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, in peso%)
8) Obiettivo per lega Zn/Al
9) Obiettivo di cromo ad alta purezza (99,95%, 99,995%)
10) Obiettivo di lega Al/Cr (70:30, 50:50, 67:33, in %
11) Obiettivo di lega Ni/Cu (70:30, 80:20, in peso%)
12) Obiettivo leghe Al/Nd (98:2wt%)
13) Obiettivo di lega Mo/Nb (90:10, in peso%)
14) Obiettivo per le leghe di TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% e a%)
15) Obiettivo per le leghe CrAlSi (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% e a%)
Il titanio è classificato in vari gradi in base alla sua composizione e alle sue proprietà.Anche il grado 2 (Gr2) è puramente commerciale ma ha una resistenza leggermente superioreIl grado 5 (Gr5), noto anche come Ti-6Al-4V, è una lega contenente alluminio e vanadio, che offre rapporti di resistenza/peso superiori.rendendolo ideale per applicazioni che richiedono elevate prestazioni sotto stress.
Le leghe di TiAl, che combinano titanio e alluminio, forniscono una maggiore durezza e stabilità termica.Ciò li rende particolarmente utili per rivestimenti che richiedono un'eccellente resistenza all'usura e prestazioni a temperature elevateLe proprietà uniche di questi tipi e leghe di titanio li rendono scelte favorevoli per varie applicazioni di PVD.quando la qualità del rivestimento influisce direttamente sulle prestazioni del prodotto finale.
Gli obiettivi di sputtering sono materiali che vengono bombardati da particelle cariche ad alta velocità durante il processo di rivestimento PVD.gli atomi vengono espulsi dalla sua superficie e depositati su un substratoLa scelta del materiale di destinazione influenza direttamente le proprietà del film risultante, consentendo la personalizzazione dei rivestimenti per soddisfare esigenze specifiche.Selezionando diversi materiali bersaglio, come le leghe di alluminio, rame o titanio, i produttori possono produrre pellicole con caratteristiche diverse, tra cui superdurezza, resistenza all'usura e proprietà anticorrosive.
Nel caso di bersagli di sputtering in titanio, la capacità di produrre film che presentano adesione superiore, basso attrito e alta durezza è particolarmente vantaggiosa.Queste proprietà sono cruciali per applicazioni in industrie come l'aerospazialeIn questo caso, la tecnologia del titanio è molto più efficiente per la produzione di prodotti di alta qualità, in particolare per la tecnologia automobilistica e medica, dove i componenti sono sottoposti a condizioni estreme e devono mantenere l'integrità nel tempo.i produttori possono ottenere rivestimenti che migliorino le prestazioni e la longevità dei componenti critici.
Lo sputtering è una tecnica di deposizione utilizzata per creare film sottili su vari substrati.che espellono atomi dalla superficie del bersaglioQuesti atomi espulsi si depositano poi su un substrato, formando un sottile film.Lo sputtering è favorito nelle applicazioni mediche per la sua capacità di produrre rivestimenti uniformi con un controllo preciso dello spessore e della composizione.
Gli obiettivi metallici, incluso il titanio, sono particolarmente preziosi nel settore medico a causa delle loro proprietà meccaniche favorevoli, della loro resistenza alla corrosione e della loro biocompatibilità.è ampiamente utilizzato per applicazioni mediche a causa del suo rapporto resistenza/peso e della sua capacità di integrarsi perfettamente con i tessuti umani.
Il titanio è un materiale eccezionale nel campo medico, soprattutto per la sua biocompatibilità.rendendolo ideale per impianti a lungo termine come protesi ortopediche e apparecchi dentaliInoltre, la resistenza alla corrosione del titanio garantisce che esso mantenga la sua integrità negli ambienti difficili spesso presenti all'interno del corpo umano.
Quando viene utilizzato come bersaglio di sputtering, il titanio può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici per vari dispositivi medici.struttura del grano, e la compattezza del materiale di destinazione, che influenza direttamente le proprietà delle pellicole depositate.
I bersagli di sputtering di titanio personalizzati sono utilizzati in una varietà di applicazioni mediche, tra cui:
Impianti ortopedici: i rivestimenti in titanio migliorano le proprietà superficiali dei dispositivi ortopedici, migliorando la biocompatibilità e riducendo l'usura.Questo è fondamentale per gli impianti che sopportano carichi meccanici significativi.
Impianti dentali: i rivestimenti di titanio sputter migliorano l'osseointegrazione degli impianti dentali, favorendo un migliore legame con il tessuto osseo circostante.
Strumenti chirurgici: i rivestimenti applicati mediante sputtering possono migliorare la durezza e la resistenza alla corrosione degli strumenti chirurgici,prolungando la loro durata e mantenendo le loro prestazioni attraverso cicli di sterilizzazione ripetuti.
Sistemi di distribuzione dei farmaci: tecniche innovative di sputtering consentono lo sviluppo di film ultrasottili in grado di facilitare il rilascio controllato dei farmaci, migliorando l'efficacia del trattamento.
Il titanio, in particolare il grado 1 e il grado 2, è molto apprezzato in ambito medico e biomedicale per la sua biocompatibilità, resistenza e caratteristiche di leggerezza.È comunemente usato nei dispositivi medici perché non è dannoso per il corpo e non è probabile che provochi reazioni allergiche.
Requisiti chimici | |||||||||||
N | C | H | Fe | O | Al | V. | Pd | Mo. | Ni | Ti | |
Gr1 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.20 | 0.18 | / | / | / | / | / | palla |
Gr2 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | / | / | palla |
Gr5 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.40 | 0.20 | 5.5~6.75 | 3.5~4.5 | / | / | / | palla |
Gr7 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | 0.12 ~ 0.25 | / | / | palla |
Gr12 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | 0.2~0.4 | 0.6~0.9 | palla |
I bersagli per lo sputtering delle leghe di titanio, comprese le leghe di TiAl, sono materiali versatili ampiamente utilizzati per applicazioni di rivestimento in settori che vanno dall'aerospaziale all'elettronica e alla biomedica.Questi materiali forniscono proprietà eccezionali come la resistenza, resistenza alla corrosione, biocompatibilità e resistenza all'usura, che li rende ideali per applicazioni impegnative che richiedono film sottili resistenti e ad alte prestazioni.Quando si sceglie un bersaglio per lo sputtering in titanio, fattori quali la composizione della lega, la purezza e la geometria bersaglio devono essere considerati per ottenere risultati ottimali nel processo di sputtering.