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Dettagli dei prodotti

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Obiettivo di titanio
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Bersaglio di sputtering di titanio ad alta purezza ASTM B348

Bersaglio di sputtering di titanio ad alta purezza ASTM B348

Marchio: LHTI
Numero modello: LH-10
MOQ: 10 pezzi
Prezzo: US dollar $ 25.5/pc--US dollar $125/pc
Condizioni di pagamento: L/C,D/P,T/T,Western Union,paypal ecc
Capacità di fornitura: 5000 pezzi alla settimana
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
La Cina
Certificazione:
ISO9001
Nome del prodotto:
Titanio di elevata purezza che farfuglia gli obiettivi per la macchina di rivestimento di vuoto di P
Materiale:
Titanio puro, lega di titanio
Applicazione:
Industria ricoprente, farfugliante industria del rivestimento di vuoto
Parola chiave:
Obiettivo di titanio farfugliare
Pacchetto:
Cassa del compensato o conciliare il vostro requisito
Imballaggi particolari:
L'involucro del cotone della perla o l'imballaggio sigillato, fuori è cassa standard del cartone o c
Capacità di alimentazione:
5000 pezzi alla settimana
Evidenziare:

Titanio di elevata purezza che farfuglia gli obiettivi

,

Obiettivo di titanio della macchina di rivestimento di vuoto di PVD

,

Obiettivi di titanio puri farfugliare

Descrizione del prodotto

Meta di sputtering per titanio ad alta purezza ASTM B348

Questo bersaglio per lo sputtering di titanio ad alta purezza è prodotto da titanio di grado 1, grado 2, grado 5, grado 7 e grado 12 con un tenore minimo di titanio del 99,5% e un tenore di impurità inferiore allo 0,04%.I bersagli sono forgiati e lavorati CNC secondo le norme ASTM B348 e ASTM B381 con una densità di 4.51 o 4.50 g/cm3, e possono essere forniti anche obiettivi di lega quali Ti-Al, Ti-Cr e Ti-Zr nonché cromo, zirconio, rame e tungsteno.

Specifiche tecniche

Tipo di prodotto Obiettivo di sputtering di titanio
Materiale Titanio puro e lega di titanio (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, Gr12)
Contenuto di titanio 990,5% min
Contenuto di impurità Al di sotto dello 0,04%
Densità 40,51 o 4,50 g/cm3
Norme ASTM B348, ASTM B381
Tecnica Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528
Applicazione Separazione dei semiconduttori, rivestimento a strati, rivestimento degli elettrodi di stoccaggio, rivestimento da sputtering, rivestimento superficiale, rivestimento in vetro

Disponibili forme e dimensioni dei bersagli

Forma del bersaglio Intervallo di dimensioni Spessore
Obiettivo rotondo Diametro 30 - 2000 mm 3.0 mm - 300 mm
Obiettivo della piastra Lunghezza 200 - 500 mm, larghezza 100 - 230 mm 3 mm - 40 mm
Obiettivo del tubo Diametro 30-200 mm, lunghezza 500-2000 mm 5 mm - 20 mm
Personalizzato Disponibile su richiesta su richiesta

Applicazioni e vantaggi del titanio

Gli obiettivi di sputtering in titanio sono utilizzati nella separazione dei semiconduttori, nel rivestimento con pellicola, nel rivestimento degli elettrodi di stoccaggio, nel rivestimento con sputtering, nel rivestimento superficiale e nell'industria del rivestimento del vetro.La purezza influenza fortemente le prestazioni del film sputtered, perché una maggiore purezza dà una migliore resistenza alla corrosione e migliori proprietà elettriche e ottiche.sono le principali fonti di contaminazione da pellicola, e la densità influisce sia sulla velocità di sputtering che sulla qualità elettrica e ottica del film.Una struttura di grani sottili e uniformemente distribuita sputa più velocemente e produce uno spessore di film più uniforme.

Qualità, personalizzazione e inchiesta

Targets are forged and CNC machined under ISO9001 quality control and packed in vacuum plastic bags with foam and pearl cotton inside a fumigation-free plywood case to meet international transport standardsLa forma, le dimensioni, il grado e la quantità possono essere personalizzati, la capacità mensile raggiunge i pezzi 5000 e la consegna normalmente richiede 15-20 giorni.la necessità di purezza e la quantità in modo da poter preparare un preventivo.

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